• TDC离线式清洗机

TDC离线式清洗机

Nu/CLEAN型水洗机具有容易使用和保养的特点。触摸屏控制系统使用起来非常直观、简单,可以控制和监督水洗机的所有重要功能。警报和保养显示屏让操作员能够马上知道需要采取什么措施。水箱、机柜以及控制系统的结构设计令日常保养工作既简单又快捷。

产品详情

product details

产品参数


序号
项目名称
技术指标
1电气系统208/230V、60Hz、30A、1 PH
2排气系统350 CFM
3进水系统

60°C (140°F) Min.; 5.7 L/min (1.5 GPM) Min. ; 138 kPa (20 PSI)

最低60°C(140°F); 最低5.7升/分钟(1.5 GPM); 138 kPa(20 PSI)

4外形尺寸1117 mm x 889 mm x 1651 mm (44” x 35” x 65” )
5装料高度可调approx. 965 mm x 1016 mm (38” – 40”)
6重量

272 Kg (600 lbs) , installation weight approximately 227 Kg (500 lbs)

约272 Kg(600 lbs)。安装重量:约227 Kg(500 lbs)


触摸屏控制系统

系统图


坚固耐用、Windows操作平台

编程界面可以进行密码控制

操作简单的界面

软件已经包含了警报系统

设备超出极限值时会从触摸屏显示出来,并发出声音警报

照明灯塔


标准特性


装料

两层物料架,可分层填装

推拉式进料架

卡扣式门窗,开关便捷


清洗工艺


捷科精密

溶剂清洗工序Solvent cleaning process

1.补液: DI水被泵到槽内, 同时一定比例的化学清洗剂也添加到槽内

2.排液: 把清洗完的清洗液排出

3.运行: 混合好的DI水与溶剂在温度达到设定值后被泵泵进清洗槽进行清洗

捷科精密

溶剂冲洗工序Solvent flushing process

1.补液:水从外部水箱被泵至槽内

2.运行:水达到设定温度后被泵进清洗管内进行清洗产品

3.排液:清洗液通过辅助泵排出

捷科精密

漂洗工序Rinsing process

1.补液:水从外部水箱被泵至槽内

2.运行:水达到设定温度后被泵进清洗管内进行清洗产品

3.排液:清洗液通过辅助泵排出

捷科精密

干燥工序Drying process

 1.运行:干燥空气是强行通过一个过滤器装置强制迫吹入箱体内,对产品进行风干,一般情况下,干燥空气温度73度左右

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1吨纯水机

1吨纯水机

本系统为产水1m3/h二级反渗透纯水制备系统,是自来水作为原水,先经过前置预处理。经过一系列处理后,可去中水中的颗粒、胶体、有机杂质、重金属离子、细菌、病毒、热源等物质及99%的溶解盐,系统脱盐率高达96%~99%。 该系统包括预处理部分(增压泵、机械过滤器、活性炭过滤器、5μm保安过滤器); 一级RO反渗透、二级RO反渗透部分、EDI超纯水设备(设备电控、高压水泵、RO组件、控制传感器),超纯水进入超纯水箱备用。由纯水泵输送纯水至用水点,为防止纯水的二次污染,在管路上安装终端精密过滤器,以保证出水水质合格。 本系统作为一个整体,每一个处理工艺都是互相联系的,前一个处理工艺的效果可能影响下一级处理工艺,都可能对整套系统终端产水造成影响。

漂洗水处理机

漂洗水处理机

本项目主要为清洗机漂洗水废水,处理量为1T/H,其成分复杂所以在进入之前需有一个简单的预处理,然后进入超滤系统进行进一步去除杂质,产水进入普通RO系统,RO系统浓水直接进入海淡系统浓缩处理,其回收率在90%以上,剩余废水委外处理

半导体封装清洗机JEK-380SC

半导体封装清洗机JEK-380SC

半导体封装清洗机.SIP系统级封装、WLP晶圆级封装、FCCSP倒装封装、PANEL板级封装等.IGBT、Mini-LED、LEAD FRAME、COMS 、 IC载板等。 独立的双水箱设计,可兼容水洗工艺和清洗液工艺程清洗。整机采用台湾进口PP板制作,基于PP材料良好的抗氧化性,机器即使使用多年后,外观与内部依然如新机。

气相清洗机SBU452R

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SBU452R 是按照当地溶剂排放标准设计的一款环保,经 济,低损耗的溶剂清洗机,它的特性符合 OHSA 标准要 求。此设备采用了一系列的技术革新来实现溶剂的最少 损耗。

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