半导体清洗设备,国产设备步入高速成长期

来源:常见问答 阅读量:52 发表时间:2021-12-21 12:00:27 标签: 半导体清洗机 半导体清洗机厂家

导读

目前,随着半导体芯片工艺技术的发展,工艺技术节点进入 28 纳米、14 纳米等更先进等级,随着工艺流程的延长且越趋复杂,每个晶片在整个制造过程中需要甚至超过 200 道清洗步骤,晶圆清洗变得更加复杂、重要及富有挑战性;清洗设备及工艺也必须推陈出新,使用新的物理和化学原理,在满足使用者的工艺需求条件下,兼顾降低晶...

目前,随着半导体芯片工艺技术的发展,工艺技术节点进入 28 纳米、14 纳米等更先进等级,随着工艺流程的延长且越趋复杂,每个晶片在整个制造过程中需要甚至超过 200 道清洗步骤,晶圆清洗变得更加复杂、重要及富有挑战性;清洗设备及工艺也必须推陈出新,使用新的物理和化学原理,在满足使用者的工艺需求条件下,兼顾降低晶圆清洗成本和环境保护。

国产湿法工艺设备所部署的技术路线:

半导体清洗设备,国产设备步入高速成长期

槽式设备(槽数量按需配置)及单片机设备(8~12 反应腔)均可以提供 8~12 寸晶圆制造的湿法工艺设备。该类设备可以应用在先进工艺上,主要为存储(DRAM,3D Flash)、先进逻辑产品以及一些特殊工艺上,例如薄片工艺、化合物半导体、金属剥离制程等。

在技术储备上,国产品牌将持续投入资源开发符合高阶工艺应用的设备(如多反应腔、18 腔等)。

国产品牌的湿法工艺设备的子系统包含药液循环系统、温控系统、传送系统、自动控制系统、通信系统、传感控制系统、气体流场设计、反应药液回收环设计等。

此外,泛半导体工艺伴随许多种特殊制程,会使用到大量超高纯(ppt 级别)的干湿化学品,这是完成工艺成果的重要介质,其特点是昂贵并伴随排放。

在集成电路领域,高纯工艺系统主要包括高纯特气系统、大宗气体系统、高纯化学品系统、研磨液供应及回收系统、前驱体工艺介质系统等。

其中,各类高纯气体系统主要服务于几大干法工艺设备,各类高纯化学品主要服务于湿法工艺设备。

国产品牌在湿法工艺往深度走的同时,在减排和工艺数字化领域也投入研发,有具体的产品和服务的部署,该领域的投入兼具经济效益和社会效益。高纯工艺系统的核心是系统设计,系统由专用设备、侦测传感系统、自控及软件系统、管阀件等组成;系统的前端连接高纯介质储存装置,系统的终端连接客户自购的工艺生产设备。

半导体是许多工业整机设备的核心,普遍应用于计算机、消费类电子、网络通信、汽车电子等核心领域,半导体主要由四个部分组成:集成电路、光电器件、分立器件和传感器,其中集成电路在总销售额占比高达80%以上,是半导体产业链的核心领域。其中通常以芯片设计、制造和封装测试为集成电路产业链三大环节,设备材料与制造和封装测试联系最为紧密,对应分为前道设备和后道设备,晶圆材料和封装材料。

随着国家扶持力度的不断加大,制造企业与国产设备厂商的合作意愿较强,国产化进度明显加快,市占率不断提升,有望成为未来的优质赛道。

半导体设备资本投入大,人才缺乏,行业壁垒较高,能获得优势资源的各细分领域的龙头企业,国产替代的速度预计将高于靠后企业。

PCBA清洗机JEK-650CL

PCBA清洗机JEK-650CL

大批量清洗针对大批量、中产能产品清洗独立双水箱设计独立的双水箱设计,可兼容水洗工艺和清洗液工艺程清洗按需定制可按照清洗需求定制进口PP版制作整机采用台湾进口PP板制作,基于PP材料良好的抗氧化性,机器即使使用多年后,外观与内部依然如新机

气相清洗机SBU452R

气相清洗机SBU452R

SBU452R 是按照当地溶剂排放标准设计的一款环保,经 济,低损耗的溶剂清洗机,它的特性符合 OHSA 标准要 求。此设备采用了一系列的技术革新来实现溶剂的最少 损耗。

电动水基钢网清洗机

电动水基钢网清洗机

该设备采用绿色环保的水基清洗工艺,兼具喷淋粗清洗、以及喷淋漂洗、风刀切水、烘干等功能,清洗效果极佳,液体消耗量极少,使得全新的高效水基清洗技术与传统的钢网清洗技术完美融合,对以往的钢网清洗方式进行了革命性的变革和创新。

PCBA离线清洗机

PCBA离线清洗机

该设备结构紧凑,全封闭设计,一体化综合性清洗机。主要用于PCBA焊后助焊剂残留物的清洗,喷淋清洗方式,清洗批量中等,清洗后的表面洁净度高。

消息提示

关闭